法國人Nicephore niepce。儘管光刻機發明的時間較早，但並沒有在各行業領域之中被使用，直到第2次世界大戰時，該技術應用於印刷電路板，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別，在塑料板上通過銅線路製作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子裝置領域中關鍵材料之一。
光刻機：光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。
A手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；
B半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；
C自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和迴圈都是通過程式控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。
