光刻技術的原理是什麼

光刻技術的原理：積體電路製造中利用光學、化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。

隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2至3個數量級，已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、鐳射等新技術；使用波長已從4000埃擴充套件到 0.1埃數量級範圍。